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簡要描述：
可控高溫原位X射線測試臺是一種集成了高溫控制與X射線衍射分析功能的科研設備。適用于晶體材料物相定性和定量分析、衍射譜的指標化和點陣參數(shù)的測定、晶粒尺寸及點陣畸變的測定、薄膜物相的測定以及原位高溫結構變化的動態(tài)分析等。
廠商性質：生產廠家- 更新時間：2025-06-20
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詳情介紹
| 品牌 | 中科萬垣 |
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一、產品概述：
可控高溫原位X射線測試臺主要用于研究材料在高溫環(huán)境下的結構變化與性能表現(xiàn)，適用于晶體材料物相定性和定量分析、衍射譜的指標化和點陣參數(shù)的測定、晶粒尺寸及點陣畸變的測定、薄膜物相的測定以及原位高溫結構變化的動態(tài)分析等。通過該設備，研究人員可以在不破壞樣品的情況下，直接觀察材料在高溫下的結構演變，為材料科學、化學、物理等領域的研究提供有力支持。
二、裝置參數(shù)：
1.裝置包含溫控器，原位池腔體，加熱系統(tǒng)，上位機軟件，真空系統(tǒng)；
2. 裝置采用PID智能控制，USB信號傳輸，溫度曲線數(shù)據采集，可存儲，可調取;
3.可多點溫控校正，溫度可限設置，溫度可以多程序段設置；
4.溫度范圍常溫-1000℃，控溫精度小于0.3℃,升溫速率：80℃/min；
5.裝置采用電阻加熱，傳感器置于樣品下方，能直觀反映樣品真實溫度變化；
6.升溫臺直徑25mm, 窗采用半球型結構，平面360°無遮擋采集，進口PEEK材質；
7.裝置采用O型圈密封，密封良好，可以抽真空，可充通反應氣體；
8. 裝置采用航空鋁材質，裝置外形110mm*80mm*50mm，凈重0.5Kg;
9.腔體冷卻方式：采用循環(huán)水冷卻;
10.裝置.操作簡單，安裝方便，測試一致性好;
11. 裝置廣泛應用在各大主流衍射儀品牌上以及同步輻射，無需改裝儀器。
三、應用領域：
可控高溫原位X射線測試臺廣泛應用于材料科學、化學、物理等領域的研究中，特別是在研究材料在高溫下的結構變化、性能表現(xiàn)以及反應機理方面具有重要意義。
綜上所述，是一種功能強大、易于操作與維護的科研設備，為材料科學、化學、物理等領域的研究提供了有力支持。
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